用途:該設備用于帶框生瓷片沖腔工藝,具有自動上下料、自動定位,自動沖切等功能,滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12隨著半導體行業(yè)發(fā)展,砷化鎵、磷化銦等二代半導體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導體材料,對于濕化學清洗工藝提出了新要求。在配置傳統(tǒng)獨立濕處理工藝槽(SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry)的基礎上,新材料清洗設備按照客戶工藝菜單進行優(yōu)化設置,配液精度、配液種類、清洗方式方面進行設計提升,同時保持與行業(yè)廠商、學校研究院所的積極聯合探索和設備定制。
TIME: 2024-10-11有不同的獨立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設置,機械手在各工藝槽中進行相應的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11自動供液系統(tǒng)可以通過VMB給多臺設備進行供液。具有過濾、循環(huán)功能,根據用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環(huán)系統(tǒng);當其中一個桶內的液體用完時,能夠自動進行雙桶切換并且提示用戶。同時還具備化學液的取樣檢測功能。
TIME: 2024-10-11該設備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業(yè),最 大壓力80MPa,最大直徑600,最小230
TIME: 2024-10-11全自動疊層機是用于生瓷片疊片的設備,具備自動上下料、自動切片、自動撕膜、自動對位、真空疊壓等功能,廣泛應用于LTCC、HTCC、MLCC等領域。
TIME: 2024-10-12全自動硅塊清洗機可以通過以下多種方式來提高加工效率: 一、優(yōu)化清洗流程 1.合理安排清洗步驟順序 對硅塊清洗的步驟進行科學規(guī)劃。例如,先進行初步的表面沖洗,去除大塊的雜質和灰塵,然后再進行化學試劑浸泡清洗,這樣可以避免一開始就使用化學試劑而導致雜質被包裹在硅塊表面,影響清洗效果。接著進行超聲波清洗,能夠深入清除硅塊表面和孔隙內的微小顆粒。進行純水漂洗,確?;瘜W試劑無殘留。通過合理的步驟安排,減少清洗過程中的重復操作和不必要的時間浪費。
零部件清洗機是一種專門用于清洗各類機械零部件的設備,能高效去除零部件表面的油污、鐵屑、灰塵、切削液等雜質,在工業(yè)生產、汽車制造、機械維修等領域應用廣泛,下面從不同維度介紹:
整平機是一種用于對金屬板材、卷材等材料進行平整處理,使其表面平整度達到特定工藝要求的機械設備,下面是簡要介紹: 1.工作原理 機械整平:依靠多組上下交錯排列的輥輪來運作。材料從進料口進入整平機,在經過這些輥輪時,輥輪對材料施加一定的壓力,反復碾壓、拉伸,逐漸消除材料原本的彎曲、波浪、褶皺等缺陷,讓表面趨于平整光滑 。不同型號整平機的輥輪數量、排列方式和直徑大小各有差異,會影響整平效果與適用材料范圍。