用途:該設備用于帶框生瓷片沖腔工藝,具有自動上下料、自動定位,自動沖切等功能,滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12隨著半導體行業(yè)發(fā)展,砷化鎵、磷化銦等二代半導體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導體材料,對于濕化學清洗工藝提出了新要求。在配置傳統(tǒng)獨立濕處理工藝槽(SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry)的基礎上,新材料清洗設備按照客戶工藝菜單進行優(yōu)化設置,配液精度、配液種類、清洗方式方面進行設計提升,同時保持與行業(yè)廠商、學校研究院所的積極聯(lián)合探索和設備定制。
TIME: 2024-10-11有不同的獨立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設置,機械手在各工藝槽中進行相應的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11自動供液系統(tǒng)可以通過VMB給多臺設備進行供液。具有過濾、循環(huán)功能,根據(jù)用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環(huán)系統(tǒng);當其中一個桶內的液體用完時,能夠自動進行雙桶切換并且提示用戶。同時還具備化學液的取樣檢測功能。
TIME: 2024-10-11該設備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業(yè),最 大壓力80MPa,最大直徑600,最小230
TIME: 2024-10-11全自動疊層機是用于生瓷片疊片的設備,具備自動上下料、自動切片、自動撕膜、自動對位、真空疊壓等功能,廣泛應用于LTCC、HTCC、MLCC等領域。
TIME: 2024-10-12全自動硅塊清洗機主要用于硅料的清洗處理,以下是其主要用途和特點:1.全自動硅塊清洗機廣泛應用于半導體產業(yè)和光伏產業(yè)中對多晶硅和單晶硅塊料進行清洗腐蝕,對提高硅料表面質量和生產效率方面發(fā)揮著重要作用,確保后續(xù)硅片的性能和質量。
溫等靜壓機(WIP)是一種用于在高溫和高壓環(huán)境下處理材料的特殊設備,主要用于固化聚合物、金屬和陶瓷材料,確保材料的密度和結構完整性。 溫等靜壓機在多層陶瓷電容及其它薄膜的壓制中的應用,也提高了產品的物理性能和電氣性能。
第25屆中國國際光電博覽會(以下簡稱中國光博會)在深圳國際會展中心(寶安新館)舉辦。 本次展會吸引了全球超過3700家光電企業(yè)匯聚一堂,吸引了超過12萬觀眾來到現(xiàn)場。展會覆蓋了信息通信、精密光學、攝像頭技術及應用、激光及智能制造、紅外&紫外、智能傳感、新型顯示等多個光電領域,從材料、器件、設備、核心技術到成套解決方案,展示了光電產業(yè)的最新成果,為光電產業(yè)及其下游應用領域帶來了前沿的新技術、新模式。